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半导体陶瓷部件的主要生产工艺介绍
制备芯片需要用到半导体设备,如刻蚀机、光刻机、离子注入机等,打开半导体设备,里面运用了大量的陶瓷零部件,陶瓷零部件具有耐高温、耐腐蚀、精度高、强度高等优异性能,其可以很好地用在半导体设备内。
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高端MLCC陶瓷粉体 · 制备难点 · 国产替代展望
高端MLCC的生产制造具有非常高的壁垒,调浆、成型、堆叠、均压、烧结、电镀等众多环节,无一不对厂商在陶瓷粉体、成型烧结工艺、专用设备的积累,有着极高的要求。各大厂商均具有一般性的MLCC产能,但高阶MLCC产能因为技术要求更高,目前集中在日厂手中。
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反应烧结制备碳化硅陶瓷及其性能研究
碳化硅是 C—Si 共价键相结合的一种化合物,具有良好的耐磨性和抗热震性,以及耐腐蚀性强,热导率高等优良性能,被广泛用于航空航天、机械制造、石油化工、金属冶炼以及电子行业,特别用于制作耐磨损部件和高温结构部件。
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如何烧结出致密的氧化铝陶瓷
氧化铝陶瓷具有高绝缘性、高隔热性、耐腐蚀、硬度高等优点,可广泛用于制造坩埚、发动机火花塞、高温耐火材料、热电偶套管、绝缘基片、密封环、刀具模具等。
氮化硅陶瓷粉末的制备方法
氮化硅( Si3N4 )是一种由硅和氮组成的共价键化合物,1857 年被发现,到 1955 年,其作为陶瓷材料实现了大规模生产。氮化硅陶瓷具有金属材料和高分子材料所不具备的众多优点,如耐高温(在 1200 ℃下抗弯强度可达 350 MPa 以上)、耐酸碱腐蚀、自润滑等,在航空航天、国防军工、机械领域得到广泛应用。
硅粉氮化法是技术最成熟、应用最广泛的氮化硅粉体批量化生产方法。德国的Alzchem、瑞典的Höganäs(收购HC starck陶瓷粉末业务)、斯凯孚(收购VESTA Si)等国际著名粉体厂商均采用该方法批量化生产氮化硅粉。目前只有日本 UBE 公司掌握液相反应法制备技术。国内氮化硅粉企业有青岛瓷兴、衡阳凯新、新疆晶硕、河北高富等,多采用硅粉氮化法、自蔓延高温合成法等方法制备。
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