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半导体陶瓷部件的主要生产工艺介绍
制备芯片需要用到半导体设备,如刻蚀机、光刻机、离子注入机等,打开半导体设备,里面运用了大量的陶瓷零部件,陶瓷零部件具有耐高温、耐腐蚀、精度高、强度高等优异性能,其可以很好地用在半导体设备内。
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高端MLCC陶瓷粉体 · 制备难点 · 国产替代展望
高端MLCC的生产制造具有非常高的壁垒,调浆、成型、堆叠、均压、烧结、电镀等众多环节,无一不对厂商在陶瓷粉体、成型烧结工艺、专用设备的积累,有着极高的要求。各大厂商均具有一般性的MLCC产能,但高阶MLCC产能因为技术要求更高,目前集中在日厂手中。
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反应烧结制备碳化硅陶瓷及其性能研究
碳化硅是 C—Si 共价键相结合的一种化合物,具有良好的耐磨性和抗热震性,以及耐腐蚀性强,热导率高等优良性能,被广泛用于航空航天、机械制造、石油化工、金属冶炼以及电子行业,特别用于制作耐磨损部件和高温结构部件。
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如何烧结出致密的氧化铝陶瓷
氧化铝陶瓷具有高绝缘性、高隔热性、耐腐蚀、硬度高等优点,可广泛用于制造坩埚、发动机火花塞、高温耐火材料、热电偶套管、绝缘基片、密封环、刀具模具等。
聚焦 CVD SiC 核心技术,德智新材引领半导体设备零部件国产替代

据QYResearch调研团队最新报告“全球固态 CVD SiC 聚焦环市场报告2026-2032”显示,预计2032年全球固态 CVD SiC 聚焦环市场规模将达到8.1亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为13.7%。

数据来源:QYResearch
碳化硅(SiC)是一种性能优异的结构陶瓷材料。碳化硅零部件,即以碳化硅及其复合材料为主要材料的设备零部件,其具备密度高、热传导率高、弯曲强度大、弹性模数大等特性,能够适应晶圆外延、刻蚀等制造环节的强腐蚀性、超高温的恶劣反应环境,因此广泛应用于外延生长设备、刻蚀设备、氧化/扩散/退火设备等主要半导体设备。




图源德智新材
湖南德智新材料股份有限公司(原名湖南德智新材料有限公司)成立于2017年,位于动力之都株洲,注册资金2437万元,是一家专业从事碳基、陶瓷及其高端材料的研发、生产和销售的高新技术企业,率先实现国内半导体用Solid SiC刻蚀组件产品量产,拥有高端的技术、设备和高水平的研发团队。目前公司共有员工300多人,其中研发人员占比 20%,公司研发能力和产品品质深获业内认可。公司主营业务为碳基、陶瓷及其高端材料的生产与销售,主要产品包括CVD@SiC涂层、Solid SiC、Sin@SiC-SiC、CVD@TaC涂层等系列产品,广泛应用于LED光电、集成电路、第三代半导体等领域。
6月11日,第五届先进陶瓷在半导体领域应用发展论坛将在苏州中惠铂尔曼酒店隆重举行。本次论坛汇聚了国内外先进陶瓷与半导体领域的顶尖专家、学者和企业领袖,共同探讨产业发展趋势、技术创新方向和国产化突破路径。我们非常荣幸地邀请到湖南德智新材料股份有限公司副总经理 CTO/高级工程师余盛杰博士作为重磅演讲嘉宾出席本次论坛,他将以《CVD SiC部件在集成电路半导体领域应用》为题,与大家一同系统梳理CVD SiC部件在半导体制造中的应用现状、核心技术优势及工业级突破,并展望其未来发展趋势。






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