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  • 电子陶瓷的应用前景及发展趋势

    电子陶瓷是广泛应用于电子信息领域中的具有独特的电学、光学、磁学等性质的一类新型陶瓷材料,它是光电子工业、微电子及电子工业制备中的基础元件,是国际上竞争激烈的高新技术材料。

行业研究|陶瓷基板的材料与应用


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导读:鉴于陶瓷具有良好的导热性、耐热性、高绝缘、高强度、低热胀、耐腐蚀和抗辐射等优点,陶瓷基板在功率器件和高温电子器件封装中得到广泛应用。

其材料主要有Al2O3、AlN、Si3N4、SiC、BeO和BN。由于Al2O3和AlN具有较好的综合性能,两者分别在低端和高端陶瓷基板市场占据主流,而Si3N4基板由于抗弯强度高,在高功率、大温变电力电子器件封装领域发挥重要作用。

随着电子封装技术逐渐向着小型化、高密度、多功能和高可靠性方向发展,选用合适的封装材料与工艺、提高器件散热能力成为发展电子器件的技术瓶颈。
陶瓷基板由于具备良好的导热性、耐热性、绝缘性、低热膨胀系数,在电子封装特别是功率电子器件中的应用越来越广泛。预计到2027年全球市场规模将达109.67亿美元

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陶瓷基板的材料

目前应用于陶瓷基板的陶瓷材料主要有:氧化铍(BeO)、氧化铝(Al2O3)、氮化铝(AlN)、氮化硅(Si3N4)和碳化硅(SiC)。其主要材料性能比对如下:

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1.    氮化硅:用于机械行业的陶瓷球、半导体功率模块

综合来看,氮化硅陶瓷基板最具前景。Si3N4陶瓷抗弯强度高,耐磨性好,热膨胀系数最小,被认为是综合性能最好的陶瓷基板材料。同时,由于其基板的热膨胀系数与第三代半导体碳化硅相近,使得其成为碳化硅导热基板材料的首选。
Si3N4陶瓷制备工艺复杂,主要适合应用于强度要求较高但散热要求不高的领域,如机械行业的氮化硅陶瓷球,轨道交通、风电、光伏、新能源汽车等的功率模块。在新能源汽车等终端市场需求推动下,中国已经成为全球重要的氮化硅陶瓷基板消费国。随着IGBT和碳化硅MOS在新能源车领域的渗透率越来越高,市场空间有望进一步提升。

2.    氧化铝

具有原料来源丰富、价格低廉、绝缘性高、耐热冲击、抗化学腐蚀及机械强度高等优点,综合性能较好,占陶瓷基片材料总量的80%以上。

其热导率较低,热膨胀系数较高,多用在汽车电子、半导体照明、电气设备等。

3.    氮化铝

热导率为氧化铝陶瓷的6~8倍,但热膨胀系数只有其50%,此外还具有绝缘强度高、介电常数低、耐腐蚀性好等优势。除了成本较高外,氮化铝陶瓷综合性能均优于氧化铝陶瓷,是一种非常理想的电子封装基片材料。

氮化铝尤其适用于导热性能要求较高的领域。

4.    氧化铍

BeO材料密度低,热导率高,具有良好的综合性能

BeO也存一些不足,如粉体有毒性、成本高等,但大功率、高频半导体器件及航空电子设备和卫星通讯中,为追求高导热和理想高频特性,仍在采用BeO陶瓷基片。

5.    碳化硅、碳化硼

SiC有低热膨胀系数、高热传导率,有优良抗热冲击性,电性能可通过掺杂来实现其绝缘、半导体到导体的转变,是诸多行业的理想材料。但多晶体的SiC热导率低(67W/(m·K)),导电率仅40,是AlN的4倍,限制了其高频应用

B₄C在耐火材料、研磨陶瓷和防护装甲等广泛应用。反应堆堆芯组件中,可作为中子吸收材料,是仅次于燃料元件的重要功能元件。但作为基片材料,它没有突出优点。

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陶瓷基板的制备技术

(一)陶瓷基板的分类

如图,陶瓷基板从形态上主要有两类,平面陶瓷基板和三维陶瓷基板

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  1. 1.     平面陶瓷基板

主要包括薄膜陶瓷基板(TFC)、厚膜印刷陶瓷基板(TPC)、直接键合陶瓷基板(DBC)、活性金属焊接陶瓷基板(AMB)、直接电镀陶瓷基板(DPC)和激光活化金属陶瓷基板(LAM)等。
  1. 2.     三维陶瓷基板

三维陶瓷基板满足了器件气密封装的需求。主要包括高温/低温共烧陶瓷基板(HTCC/LTCC)、多层烧结三维陶瓷基板(MSC)、直接粘结三维陶瓷基板(DAC)、多层镀铜三维陶瓷基板(MPC)和直接成型三维陶瓷基板(DMC)等。

根据制备原理与工艺不同,大致流程可描述如下。

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(二)   平面陶瓷基板的制备技术

常见的平面陶瓷基板的性能比对如下:

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1.    薄膜陶瓷基板(TFC)

  • 制备:薄膜陶瓷基板一般采用溅射工艺直接在陶瓷基片表面沉积金属层。
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  • 特点:由于溅射镀膜沉积速度低,因此TFC基板表面金属层厚度较小(<1μm),可制备高图形精度(线宽<10μm)陶瓷基板,主要用于激光与光通信领域小电流器件封装。

2.    厚膜印刷陶瓷基板(TPC)

  • 制备:通过丝网印刷将金属浆料涂覆在陶瓷基片上,干燥后经高温烧结(850°C~900°C)制备TPC基板。
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  • 特点:TFC基板制备工艺简单,对加工设备和环境要求低,具有生产效率高、制造成本低等优点。由于丝网印刷工艺限制,TFC基板无法获得高精度线路(最小线宽>100μm)。因此TPC仅在对线路精度要求不高的电子器件(如汽车电子)封装中得到应用。

3.    直接键合陶瓷基板(DBC)

  • 制备:首先在铜箔和陶瓷基片间引入氧元素,在1065°C形成Cu/O共晶相,进而与陶瓷基片和铜箔发生反应生成CuAlO2或Cu(AlO2)2,实现铜箔与陶瓷间共晶键合。

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  • 特点:由于陶瓷和铜具有良好的导热性,且铜箔与陶瓷间共晶键合强度高,因而具有较高的热稳定性,可满足高温、大电流等极端环境下器件封装应用需求。但DBC在制备过程中要严格控制共晶温度及氧含量,对设备和工艺控制要求较高,生产成本也较高,也无法制备出高精度线路层。

4.    活性金属焊接陶瓷基板(AMB)

  • 制备:AMB基板制备技术是DBC基板工艺的改进:DBC基板制备中铜箔与陶瓷在高温下直接键合,而AMB基板采用活性焊料实现铜箔与陶瓷基片间键合。

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  • 特点:由于AMB使用了活性焊料,从而降低陶瓷基板内部热应力,使其结合强度高、可靠性好。该方法成本较高,合适的活性焊料较少,且焊料成分与工艺对焊接质量影响较大,目前只有少数国外企业掌握了AMB基板量产技术。

5.    直接电镀陶瓷基板(DPC)

  • 制备:前端采用了半导体微加工技术(溅射镀膜、光刻、显影等),后端则采用了印刷线路板(PCB)制备技术(图形电镀、填孔、表面研磨、刻蚀、表面处理等),技术优势明显。

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  • 特点:DPC基板具有图形精度高,可垂直互连等特性。其优势包括:采用半导体微加工技术,陶瓷基板上金属线路更加精细,适合对准精度要求较高的微电子器件封装;激光打孔与电镀填孔技术实现了陶瓷基板表面垂直互联,实现电子器件三维封装集成,降低器件体积;采用电镀生长控制线路层厚度,并通过研磨降低线路层表面粗糙度,满足高温、大电流器件封装需求;低温制备工艺(<300°C)避免了高温对基片材料和金属线路层的不利影响,同时也降低了生产成本。

6.    激光活化金属陶瓷基板(LAM)

  • 制备:利用特定波长的激光束选择性加热活化陶瓷基片表面,随后通过电镀/化学镀完成线路层制备。

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  • 特点:无需光刻、显影、刻蚀等微加工工艺,通过激光直写制备线路层,且线宽由激光光斑决定,精度高;可在三维结构陶瓷表面制备线路层,突破了传统平面陶瓷基板金属化的限制;金属层与陶瓷基片结合强度高,线路层表面平整,粗糙度在纳米级别。虽然LAM技术可在平面陶瓷基板或立体陶瓷结构上加工线路层,但其线路层由激光束“画”出来,难以大批量生产,导致价格极高,目前主要应用在航空航天领域异型陶瓷散热件加工。

(三)   三维陶瓷基板的制备技术

许多微电子器件(如加速度计、陀螺仪、深紫外LED等)芯片对空气、湿气、灰尘等非常敏感。为了提高这些微电子器件性能,特别是可靠性,必须将其芯片封装在真空或保护气体中,实现气密封装。因此,必须首先制备含腔体结构的三维基板以满足封装应用需求。
常见的三维陶瓷基板的性能比对如下:

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1.    高/低温共烧陶瓷基板(HTCC/LTCC)

  • 制备:HTCC基板制备过程中先将陶瓷粉加入有机黏结剂,混合均匀后成为膏状陶瓷浆料,接着利用刮刀将陶瓷浆料刮成片状,再通过干燥工艺使片状浆料形成生胚;然后根据线路层设计钻导通孔,采用丝网印刷金属浆料进行布线和填孔,最后将各生胚层叠加,置于高温炉(1600°C)中烧结而成。

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  • 特点:HTCC基板具有较高机械强度和热导率,物化性能稳定,适合大功率及高温环境下器件封装。但是,HTCC基板制备工艺温度高,制作成本较高,且其线路精度较差,难以满足高精度封装需求。


2.    多层烧结三维陶瓷基板(MSC)

  • 制备:与HTCC/LTCC基板一次成型制备三维陶瓷基板不同,台湾阳升公司采用多次烧结法制备了MSC基板。首先制备厚膜印刷陶瓷基板(TPC),随后通过多次丝网印刷将陶瓷浆料印刷于平面TPC基板上,形成腔体结构,再经高温烧结而成。

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  • 特点:MSC基板技术生产设备和工艺简单,平面基板与腔体结构独立烧结成型,且由于腔体结构与平面基板均为无机陶瓷材料,热膨胀系数匹配,制备过程中不会出现脱层、翘曲等现象。其缺点在于:图形精度较低;受丝网印刷工艺限制,MSC基板腔体厚度有限,所以MSC三维基板仅适用于体积较小、精度要求不高的电子器件封装。


3.    直接粘接三维陶瓷基板(DAC)

  • 制备:首先加工金属环和DPC陶瓷基板,然后采用有机粘胶将金属环与DPC基板对准后粘接、加热固化。

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  • 特点:由于胶液流动性好,因此涂胶工艺简单,成本低,易于实现批量生产,且所有制备工艺均在低温下进行,不会对DPC基板线路层造成损伤。但是,由于有机粘胶耐热性差,固化体与金属、陶瓷间热膨胀系数差较大,且为非气密性材料,目前DAC陶瓷基板主要应用于线路精度要求较高,但对耐热性、气密性、可靠性等要求较低的电子器件封装。

4.    多层电镀三维陶瓷基板(MPC)

  • 制备:MPC与DPC基板类似,只是在完成平面DPC线路层加工后,再多次光刻、显影和图形电镀完成围坝制备。

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  • 特点:MPC以图形电镀工艺制备线路层,避免了HTCC/LTCC与TPC基板线路粗糙问题,满足高精度封装要求;陶瓷基板与金属围坝一体化成型为密封腔体,结构紧凑,无中间粘结层,气密性高;MPC基板整体为全无机材料,具有良好的耐热性,抗腐蚀、抗辐射。其缺点在于:制备过程需要反复进行光刻、显影、图形电镀与表面研磨,耗时长,生产成本高;电镀围坝铜层较厚,内部应力大,基板容易翘曲变形,影响芯片封装质量与效率。

5.    直接成型三维陶瓷基板(DMC)

  • 制备:首先制备平面DPC陶瓷基板,同时制备带孔橡胶模具;将橡胶模具与DPC陶瓷基板对准合模后,向模具腔内填充牺牲模材料;待模材料固化后,取下橡胶模具,将模粘接于DPC陶瓷基板上,并精确复制橡胶模具孔结构特征,作为铝硅酸盐浆料成型模具;随后将铝硅酸盐浆料涂覆于DPC陶瓷基板上并刮平,加热固化,最后将模材料腐蚀,得到含铝硅酸盐免烧陶瓷围坝的三维陶瓷基板。

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  • 特点:DMC的出现提高三维陶瓷基板生产效率,同时保证了基板线路精度与可靠性。该工艺制备的三维陶瓷基板精度高,重复性好,适合量产,可满足不同结构和尺寸的电子器件封装要求。


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陶瓷基板的应用

陶瓷基板在下游领域如光纤通信、电子电器、新能源汽车、机械工程、航空航天、军工等方面得到了广泛的应用,市场需求旺盛。
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具体的,各工艺应用领域如下。

1.    电力电子器件封装

以绝缘栅双极晶体管(IGBT)为代表的第三代电力电子器件具有频率高、功率大和开关速度快等优势,在军工、航天航空、电动牵引、轨道交通、新能源汽车以及家用电子器件领域得到广泛应用。由于IGBT输出功率高,发热量大,散热不良将损坏IGBT芯片。DBC金属线路层较厚,具有载流能力大、耐高温性好及可靠性高等特点,故被广泛使用。

2.    激光器封装

LD广泛应用于工业、军事、医疗和3D打印等领域。由于LD电光转换效率约为50%~60%,工作时大量热量集中在有源区,导致结温升高,因此,在LD封装中必须采用导热性能良好、热膨胀系数匹配的陶瓷基板。由于AlN陶瓷具有热导率高、热膨胀系数低等优点,因此LD封装普遍使用AlN陶瓷基板

3.    发光二极管(LED)封装

LED是一种基于电光转换的半导体功率器件,具有电光转换效率高、响应快、寿命长和节能环保等优势,目前已广泛应用于通用照明、信号指示、汽车灯具和背光显示等领域。由于陶瓷基板具有高绝缘、高导热和耐热、低膨胀等特性,特别是采用垂直通孔技术的DPC陶瓷基板,可有效满足倒装共晶、COB(板上芯片封装)、CSP(芯片尺寸封装)等技术白光LED封装需求。

4.    热电制冷器(TEC)封装

由于热电制冷效率与半导体粒子数量呈正相关,单位面积粒子数量越多,热电制冷效率越高,DPC陶瓷基板图形精度高,可提高粒子布置密度,从而有效提高热电制冷效率。

5.    高温电子器件(HTE)封装

航空航天、深海钻探、汽车等领域电子器件需要能够在极端环境下工作,因此封装材料必须具有高耐热性和抗湿性,同时器件芯片必须密封于腔体中,避免外界环境的侵蚀和破坏。三维陶瓷基板具有高强度腔体结构,气密性良好,可满足恶劣环境下器件封装要求。

6.    高温器件或其他功率器件封装

聚焦光伏器件封装,由于聚焦作用导致太阳光密度增加,芯片温度升高,必须采用陶瓷基板强化散热。此外,在微波射频领域,为了降低损耗,需采用高频特性良好的HTCC或LTCC基板来提高速度。

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陶瓷基板产业链及相关企业

陶瓷基板产业链上游参与主体包括陶瓷粉体(生瓷片)、金属粉体和添加剂供应商;
产业链中游参与主体是陶瓷基板相关生产厂家;
产业链下游参与者包括晶振、滤波器、光模块、光芯片、功率器件、传感器、军工类芯片等产品生产厂家。

(一)   行业现状

1.    陶瓷基板行业仍为日本主导

日本企业从上世纪已开始在陶瓷领域深耕,目前从陶瓷粉体到陶瓷基板,日本占据全球绝大市场份额。除日本公司外,美国罗杰斯、德国贺利士在陶瓷基板市场中也均占据一席之地,相比之下国内陶瓷基板企业仍存在较大差距。

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2.    关键原材料依赖进口

目前氮化铝、氮化硅粉体仍依赖进口,大部分市场份额被日本企业占据,如德山曹达、日本宇部等。如氮化硅粉体,日本企业对中国的出口每年仅为千公斤级,远远无法满足市场需求。此外,用于金属化工艺的铜箔,国内尚无企业能够生产替代,完全依赖进口。

(二)   上游陶瓷粉体

日本厂商占据全世界市场份额的70%,美国Ferro、国瓷材料分别占据20%、5%的市场份额。日本德山在氮化铝粉体方面一家独大,占据全球75%市场。氮化硅粉体方面,日本宇部、电气化学走在前列。国内虽有部分厂商具备氮化铝和氮化硅的商业化生产能力,但产能普遍较小,且多为自用不对外出售。

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(三)   中游陶瓷基板

陶瓷基板方面,市场份额被日本京瓷、东芝材料,罗杰斯、丸和等海外巨头所占有,我国部分核心零部件的陶瓷基板主要依赖于进口。

从不同金属化工艺来看,日本京瓷在主流陶瓷基板技术应用上占绝对优势,占据全球38.4%的市场份额。其它国外企业如德国贺利士,美国罗杰斯也在全球陶瓷基板领域占据重要位置。国内企业方面,富乐华、同欣电子、陶陶科技等均实现了在主流陶瓷基板技术上的全覆盖。

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陶瓷基板的行业壁垒

陶瓷基板行业壁垒主要体现在两个方面。一是工艺壁垒,体现在从粉体制备到基板制备的生产工艺Know-How二是下游客户认证壁垒
(一)工艺壁垒
陶瓷粉体、陶瓷裸片和陶瓷基板三个环节均有较高的工艺壁垒,工艺难度上:粉体>陶瓷裸片>陶瓷基板。

1.    粉体制备壁垒

由于陶瓷材料多为共价晶体,有些不易产生变形且经常发生脆性断裂,需要先制备出适合用于金属化的晶体相。以氮化铝粉体为例,产业化则面临以下难点:
(1)陶瓷粉体热导率对其氧含量高度敏感。原料中的氧会严重影响晶体质量和性质,需要选用低氧含量的高品质氧化铝粉体原料,同时合理选择烧结助剂,促进氧原子向坯体外迁移,尽可能降低烧结基板中的氧含量;
(2)杂质的剔除。目前市售AlN粉体的纯度普遍不高,主要是容易存在杂质,影响粉体颜色及电学性能;
(3)粉料粒度与合理级配的影响。粒径影响粉体的烧结活性和烧结质量。故而要求粉体颗粒具有高的球形度,粒径分布呈单峰正态分布且尽可能窄。粉体颗粒度越均匀,烧结均匀性也越高。

2.    陶瓷裸片制备壁垒

各粉体制备基片的工艺大体一致,在从粉体到基片的过程中难度最大的是在烧结这一道工艺,主要技术壁垒体现在:
(1)高温预热处理。
(2)烧结助剂的选择和用量。相同工艺条件下,添加不同种类、不同用量的烧结助剂对粉体热导率均有不同影响。故而助剂的选用不仅需要反复实验寻找合适的方案,同时还需要结合后续工艺的需求。

(3)气场气流的控制。气动输送流量指空气或物料在气动输送管道中的流动速度。

3.    陶瓷基板制备壁垒

基板涉及到金属化,其机理涉及到化学和物理反应、物质的塑性流动、颗粒重排等。各种物质在不同烧结阶段中其原子或分子发生扩散迁移,重新排列后实现金属化层的致密化。
主要技术难点体现在:
(1)陶瓷与金属线膨胀系数不匹配导致的热应力问题;
(2)金属与接触面共键结晶化过程中带来的氧含量问题;

(3)活性钎料的选择和制备。

(二)客户认证壁垒

陶瓷基板用于封装工艺中,在器件封装完成后如发生故障一般无法返修,只能对整个器件进行更换,因此其对于陶瓷基板的选用和认证谨慎而严苛。例如,在汽车及军工领域,其对陶瓷基板的抗老化性能、耐极端环境能力和强度性能的测试需进行数千小时,周期长达半年至1年。相关企业在对陶瓷基板企业完成认证和准入后,一般不会轻易更换陶瓷基板供应商。

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