郑州方铭高温陶瓷新材料有限公司  

展位号：H1馆 B155

01  氧化锆，氧化钇坩埚

使用环境：真空/空气/气氛保护。

使用温度：2200°C。

氧化锆具有耐温高，抗侵蚀特点，通常用于熔炼贵金属。例如：铂金，黄金，镍合金等金属。

化钇坩埚可以满足钛合金铸造环境的应用条件。

与金属钛合金溶液不反应，无粘连、无侵润，化学稳定性能及抗冲刷性良好。

02  氧化锆承烧板

ZrO2:     ≥95％

最高使用温度：2600°C

使用环境：真空/空气/保护气氛

具有优良的抗化学侵蚀特性和耐高温特性。能够耐受各种金属氧化物/非金属氧化物熔液侵蚀，强度高，抗热震性优异。与所承烧的陶瓷元件不发生化学反应和粘连，能保证电子陶瓷产品性能的稳定性和一致性，提高烧成产品的合格率。

氧化锆承烧板广泛应用于陶瓷电容器、敏感元件、磁性材料、片式电感等电子元器件行业。

03  氧化锆气雾化喷嘴

使用温度：2200°C

适用于：空气，真空或气氛保护环境

气雾化制粉是指利用高速气流将液态金属流击碎形成小液滴，随后快速冷凝得到成形粉末。气雾化技术已经成为制备精细球形金属及合金粉末最重要的方法。

可以使用雾化法生产的金属粉末种类很多，除了难熔金属钨、钼等和非常活泼的金属以外，几乎包含了所有常见金属及合金体系。

04 稀土复合固溶体陶瓷温场

最高使用温度：2650°C

使用环境：空气，真空，保护气氛

适用于：人工晶体/ 激光晶体等各种高温环境，可根据客户使用炉子尺寸设计制作。